ResumoFilmes de óxido de estanho com flúor, depositados sobre substratos transparentes, foram preparados a partir de uma solução contendo uma mistura de NH 4 F e SnCl 2 . Uma resistência cerâmica, inserida em um forno, foi usada como fonte de calor. A deposição foi feita por meio da técnica pulverização pirolítica, com vácuo sendo gerado no bico de pulverização. A caracterização das amostras foi feita com auxílio de microscopia eletrônica de varredura, espectroscopia UV-vis, resistência elétrica e difração de raios-X. Os resultados indicam a aplicabilidade do material para a aérea fotovoltaica.
Palavras-chave:Óxido de estanho com flúor: Pulverização pirolítica: Vácuo.
AbstRActFluoride-doped tin oxide films on glass substrate were prepared from NH 4 F-doped SnCl 2 precursor by spray pyrolysis with ceramic heater as heat source, which was inserted inside the reactor and created a vacuum within nozzle. The films were characterized by scanning electron microscopy, UV-Vis spectroscopy, measurement of electrical resistance and X-ray diffraction. The results showed that the fluoride-doped tin oxide films demonstrate potential as materials for photovoltaic applications.