The 2nd International Conference on Physical Instrumentation and Advanced Materials 2019 2020
DOI: 10.1063/5.0032227
|View full text |Cite
|
Sign up to set email alerts
|

Pulsed laser deposition of gallium nitride thin films on sapphire substrates

Help me understand this report

Search citation statements

Order By: Relevance

Paper Sections

Select...
1
1

Citation Types

0
1
0
1

Year Published

2022
2022
2024
2024

Publication Types

Select...
3
1

Relationship

0
4

Authors

Journals

citations
Cited by 4 publications
(2 citation statements)
references
References 3 publications
0
1
0
1
Order By: Relevance
“…The smooth, uniform, and fine surface roughness could be recognized. The root mean square is 39.04 (nm), the average surface roughness is 20.15 (nm), and the thickness of the film is found to be about 2.426 μm 8,11,45,46 7 shows a field emission scanning electron micrograph (FESEM) of the employed GaN film taken before depositing ITO: PMMA and ITO:PEDOT: PSS: PMMA substrates. The picture reveals the surface morphology of prepared films on a nanoscale.…”
Section: Gan Thin Film Investigation 311 Atomic Force Microscopy (Afm...mentioning
confidence: 99%
“…The smooth, uniform, and fine surface roughness could be recognized. The root mean square is 39.04 (nm), the average surface roughness is 20.15 (nm), and the thickness of the film is found to be about 2.426 μm 8,11,45,46 7 shows a field emission scanning electron micrograph (FESEM) of the employed GaN film taken before depositing ITO: PMMA and ITO:PEDOT: PSS: PMMA substrates. The picture reveals the surface morphology of prepared films on a nanoscale.…”
Section: Gan Thin Film Investigation 311 Atomic Force Microscopy (Afm...mentioning
confidence: 99%
“…В методе лазерного напыления используются присадочные материалы преимущественно порошкового и проволочного типа, скорость подачи которых варьируется от 0,5 до 11 м/мин, при этом расстояние между лазерной головкой и образцом составляет 50…150 мм. В качестве источника лазерного излучения CO 2 в основном используются лазеры с мощностью в пределах 1…5 кВт [17]. Основными компонентами технологического газа, который подается в рабо-чую область, могут быть как химически активные газы (азот или кислород), так и инертные газы (гелий или аргон).Также существует вариант, когда напыляемый порошок нагревается с использованием лазерного пучка.…”
Section: лазерные технологии нанесения функциональных покрытийunclassified