2015
DOI: 10.1039/c5cc00600g
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Spontaneous assembly of silylethane-thiol derivatives on Au(111): a chemically robust thiol protecting group as the precursor for the direct formation of aromatic gold thiolate monolayers

Abstract: Self-assembled monolayers (SAMs) on gold were obtained by the direct absorption of a fully conjugated phenylenethienylene derivative () presenting robust silylethane-thiol protecting groups as anchoring agents. The thiol deprotection and SAM formation have been evidenced by quartz crystal microbalance (QCM) measurements and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), and have been compared to the SAM obtained from its thioacetate analog (5). The chemically robust silylethane-thiol protecting group appeared as a su… Show more

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“…Ebenfalls nicht für Kreuzkupplungsbedingungen eingesetzt wurden die weiteren in situ entschützbaren Gruppen Thiocyanat, [309] Thiosulfat, [310] Sulfenylchlorid [311] und die 2-(Trimethylsilyl)ethylmercaptogruppe. [312] Wie der schematischen Übersicht in Abbildung 6.2 zu entnehmen ist, erfüllt keine der aufgelisteten Schutzgruppen die Bedingung der in situ Abspaltbarkeit in Kombination mit der Kompatibilität mit Pd 0/2+ -Katalyse. Zur Darstellung der im Rahmen dieses Projekts untersuchten Terphenylthiole wurden zunächst verschiedene der oben genannten und in Abbildung 6.2 hervorgehobenen Schutzgruppen auf ihre Eignung hin untersucht.…”
Section: Syntheseplanung Und Wahl Der Schutzgruppeunclassified
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“…Ebenfalls nicht für Kreuzkupplungsbedingungen eingesetzt wurden die weiteren in situ entschützbaren Gruppen Thiocyanat, [309] Thiosulfat, [310] Sulfenylchlorid [311] und die 2-(Trimethylsilyl)ethylmercaptogruppe. [312] Wie der schematischen Übersicht in Abbildung 6.2 zu entnehmen ist, erfüllt keine der aufgelisteten Schutzgruppen die Bedingung der in situ Abspaltbarkeit in Kombination mit der Kompatibilität mit Pd 0/2+ -Katalyse. Zur Darstellung der im Rahmen dieses Projekts untersuchten Terphenylthiole wurden zunächst verschiedene der oben genannten und in Abbildung 6.2 hervorgehobenen Schutzgruppen auf ihre Eignung hin untersucht.…”
Section: Syntheseplanung Und Wahl Der Schutzgruppeunclassified
“…[309,332,333] -Im Gegensatz zu den zuvor genannten Schutzgruppen, ist die 2-(Trimethylsilyl)ethylmercaptogruppe sterisch anspruchsvoll genug, um die Gitterenergie und damit die Löslichkeit des SAM-Präkursors potentiell positiv zu beeinflussen, allerdings ist auch diese Schutzgruppe für in situ Abscheidungen nur bedingt geeignet, da auch hier eine schlechtere Monolagenqualität erreicht wird als bei der Abscheidung der entsprechenden Thioacetate. [312] -Die Thioacetat-Gruppe ist der am besten untersuchte, in situ entschützbare Thiol-Vorläufer. Sein Einsatz erfordert zur in situ Entschützung in einigen Fällen die Zugabe zusätzlicher Spaltreagenzien wie Tetrabutylammoniumcyanid [10] oder Säuren [334] und Basen, [335] mit denen die weiteren funktionellen Gruppen der Präkursormoleküle kompatibel sein müssen.…”
Section: Kriterien Zur Auswahl Der Schutzgruppeunclassified
“…Jedoch zeigen SAMs aus 2-(Trimethylsilyl)ethylmercapto-Derivaten geringere Qualitäten als bei Abscheidung aus entsprechenden Thioacetaten. [291] In dieser Studie wurde die Schichtbildung von Terphenylthiolen mit der Schichtbildung der entsprechenden, durch 3,4-Dimethoxybenzyl (DB) geschützten Derivate verglichen (siehe Abbildung 49). Neben der Unterbindung der Disulfidbildung erhöht die 3,4-Dimethoxybenzylgruppe die Löslichkeit der aromatischen Präkursoren und wurde bereits für die Bildung von Selenolat-SAMs verwendet.…”
Section: Eigenanteilunclassified