Pure niobium and niobium doped with 3000 to 4200 a t ppm Zr, Hf, MO, W, and Rh are irradiated a t 4.6 to 6 K in the reactor up to neut'ron doses of 2.72 x cm-2. The damage production rate of the doped samples increases in the range of 4 to 16.2 compared with the pure sample. This effect is probably due to the reduction of the radiation annealing processes caused by trapping of self interstitials a t the foreign atoms. The suppression of recovery in the doped samples up to about 45 K is also explained by tmpping reactions between the self interstitials and foreign atoms.For the doped samples new recovery substages appear in the temperature range 45 to 144 K. The isochronal recovery curves are measured up to 411 K .
ReinesNiob sowie mit 3000 bis 4200 At ppm Zr, Hf, Mo, M' und R h dotiertes Niob werden bei 4,6 bis 6 K im Reaktor bis zu einer Pr'cutronendosis von 2,72 x l0ls bestrahlt. Verglichen mit der reinen Probe ist die gemessene Erhohung der Schiidigungsrate in den dotierten Proben im Bereich 4 bis l6,20/, gestiegen. Diese Erscheinung beruht wahrscheinlich auf der Abnahme von ,,radiation annealing"-Prozessen infolge von Haftung der Eigen-Zwischengitteratome an den Fremdatomen. Die Unterdriickung in der Erholung bis ca. 45 K der dotierten Proben wird ebenfalls durch Haftreaktionen zwischen den Eigen-Zwischengit,teratomen und den Fremdatomen erklart. Fur die dotierten Proben erschcinen neue Erholungsstufen im Temperaturbereich 45 bis 144 K. Die isochronen Erholungskurven xvvnrden bis zu 411 I< gemessen.