2022
DOI: 10.3390/nano12152632
|View full text |Cite
|
Sign up to set email alerts
|

Theory of MOCVD Growth of III-V Nanowires on Patterned Substrates

Abstract: An analytic model for III-V nanowire growth by metal organic chemical vapor deposition (MOCVD) in regular arrays on patterned substrates is presented. The model accounts for some new features that, to the author’s knowledge, have not yet been considered. It is shown that MOCVD growth is influenced by an additional current into the nanowires originating from group III atoms reflected from an inert substrate and the upper limit for the group III current per nanowire given by the total group III flow and the arra… Show more

Help me understand this report

Search citation statements

Order By: Relevance

Paper Sections

Select...

Citation Types

0
22
0
8

Year Published

2022
2022
2024
2024

Publication Types

Select...
5
1

Relationship

1
5

Authors

Journals

citations
Cited by 8 publications
(30 citation statements)
references
References 42 publications
0
22
0
8
Order By: Relevance
“…Этот подход был развит для случая МПЭ-роста в работе [19]. В [20] была предложена модель ГФЭ-роста III−V ННК на маскированных подложках.…”
unclassified
See 3 more Smart Citations
“…Этот подход был развит для случая МПЭ-роста в работе [19]. В [20] была предложена модель ГФЭ-роста III−V ННК на маскированных подложках.…”
unclassified
“…Описание радиального роста ННК при ГФЭ требует рассмотрения двух диффузионных длин адатомов на боковой поверхности ННК, одна из которых (λ inc 3 ) лимитирована встраиванием в эту поверхность, а другая (λ des 3 ) -десорбцией [20]. Радиальный рост имеет место только при λ inc 3 < λ des 3 , в противном случае ННК имеют постоянный радиус.…”
unclassified
See 2 more Smart Citations
“…This approach has been developed further in relation to MBE growth in [19]. A model of VPE growth of III−V NWs on masked substrates has been proposed in [20].…”
mentioning
confidence: 99%