“…В настоящее время усилия многих исследовательских групп направлены на поиск методов формирования полупроводниковых квантовых точек низкой плотности, которые могут эффективно использоваться в качестве активной среды однофотонных излучателей для таких приложений как квантовая криптография [1][2][3], для различных схем квантовых вычислений [4][5], а также прецизионных измерений [6,7]. Разработаны различные технологические режимы эпитаксиального роста самоорганизующихся КТ или последующего отжига структуры, позволившие уменьшить плотность КТ InAs/InP до < 10 9 cm −2 [8], КТ InAs/InGaAsP/InP (100) до 1.3 • 10 9 cm −2 [9], КТ CdTe до 10 7 −10 8 cm −2 [10]. Также для создания КТ низкой плотности, применяется более сложный метод формирования с использованием ростовой поверхности предустановленной морфологии (site-controlled epitaxy) [11,12].…”