Азработка И Применение Экспресс-Метода Для Увеличения Окна Литографического Процесса

Abstract

В данной работе приведены основы моделирования воздушного изображения, существующие методики и САПР для расстановки SRAF. На их основе разработан метод оценки правил расстановки вспомогательных непечатаемых структур. С помощью этого метода проведено исследование зависимости окна литографического процесса от правил расстановки вспомогательных структур, прописанных в рецепте. This paper presents the basics of aerial image modeling, existing techniques, and CAD systems for the placement of SRAF. Based on them, a method has been developed for evaluating the rules for the placement of sub-resolution assist features. Using this method, a study has been conducted on the dependence of the lithographic process window on the placement rules for the sub-resolution assist features prescribed in the recipe.