В данной работе приведены основы моделирования воздушного изображения, существующие методики и САПР для расстановки SRAF. На их основе разработан метод оценки правил расстановки вспомогательных непечатаемых структур. С помощью этого метода проведено исследование зависимости окна литографического процесса от правил расстановки вспомогательных структур, прописанных в рецепте. This paper presents the basics of aerial image modeling, existing techniques, and CAD systems for the placement of SRAF. Based on them, a method has been developed for evaluating the rules for the placement of sub-resolution assist features. Using this method, a study has been conducted on the dependence of the lithographic process window on the placement rules for the sub-resolution assist features prescribed in the recipe.

Данная работа посвящена описанию возможного алгоритма создания моделей резиста с постоянным порогом и расчета окон процесса на их основе. Приведенные изыскания реализованы в виде программного средства, использующего средства моделирования фотолитографии Mentor Graphics Calibre. This work is dedicated to the description of one of possible algorithms of constant threshold resist model generation used for photolithography process window calculation. This algorithm has been realized in the form of a program using Mentor Graphics Calibre modeling tools.