Влияние концентрации ионов Al и Се на поглощение и люминесценцию эпитаксиальных пленок Gd₃(Al,Ga)₅O₁₂:Ce³⁺

Исследование Поверхностного Слоя, Образующегося При Обработке Кварцевого Стекла С Помощью Механохимического И Ионного Полирования

“…Вместе с тем следует отметить, что многие исследования, связанные с изучением ПС, а также адсорбированных пленок воды и тонких полимерных покрытий на поверхности полированного стекла, были выполнены с использованием однослойной модели методами эллипсометрии [5][6][7][8][9][10][11][12][13][14][15][16][17][18][19][20][21][22][23], поскольку этот метод обладает высокой чувствительностью применительно к изучению тонких пленок. Однако при исследовании ПС наличие на поверхности адсорбированных пленок воды дает дополнительный фазовый сдвиг пучка света, что приводит к системным ошибкам при расчетах параметров ПС в рамках однослойной модели [21].…”

“…Типовая однослойная оптическая модель полированной поверхности с изотропным ПС, используемая в большинстве работ [5][6][7][8][9][10][11][12][13][14][15][16][17][18][19][20][21][22][23], приведена на рис. 1, а.…”

“…Хотя современные методы эллипсометрии и спектроскопии позволяют изучать вид профиля показателя преломления в ПС [18][19][20][21][22][23][40][41][42][43][44][45][46], однако для решения этой задачи приходится использовать более трудоемкие методы многоугловых измерений. Реальная схема МХП поверхности не однослойная и должна учитывать не только градиентные свойства ПС, но и до-полнительный тонкий поверхностный слой, состоящий из адсорбированной воды и углеводородов (рис.…”

“…В настоящее время для этих задач широко используется весь арсенал современных технических средств контроля атомарного и молекулярного состава дефектов поверхностного слоя [11][12][13][14][15][16][17]. Свойства поверхностного слоя кварцевого стекла, модифицированного в результате механoхимической полировки (МХП) [18][19][20][21][22][23][24][25][26], могут быть улучшены с помощью последующей полировки/бомбардировки ионным пучком (БИП) [27][28][29][30][31][32][33][34][35]. В результате повышается УФ светопропускание, отражение в ИК области и заметно возрастает лучевая прочность [36][37][38].…”