2021
DOI: 10.21883/jtf.2021.04.50630.271-20
|View full text |Cite
|
Sign up to set email alerts
|

Особенности Согласования Нижнего Электрода С Высокочастотным Генератором Смещения При Реактивно-Ионном Травлении Массивных Подложек

Abstract: This paper presents theoretical and experimental results on reactive ion etching of massive substrates in freon-14 with RF bias at the lower electrode. A hypothesis is proposed according to which a large-sized substrate violates the matching of the lower electrode with the RF generator by adding an additional reactive component to the impedance of the lower electrode. A numerical simulation of reactive ion etching with substrates of various sizes in a CF4 environment is performed . The simulation results showe… Show more

Help me understand this report

Search citation statements

Order By: Relevance

Paper Sections

Select...

Citation Types

0
0
0
12

Year Published

2021
2021
2021
2021

Publication Types

Select...
2

Relationship

2
0

Authors

Journals

citations
Cited by 2 publications
(12 citation statements)
references
References 6 publications
0
0
0
12
Order By: Relevance
“…Такие оптические элементы, как широкоапертурные дифракционные линзы, применяемые для фокусировки лазерного излучения высокой мощности, должны быть изготовлены на массивных пластинах, обеспечивающих высокую лучевую прочность [5]. В работе [6] нами было показано, что внесение массивных диэлектрических подложек в рабочую камеру установки РИТ приводит к резкому увеличению коэффициента отражения по мощности (превышающему предельное паспортное значение) для генератора высокой частоты (ГВЧ), соединенного с нижним электродом. Это означает нарушение согласования ГВЧ с нижним электродом, приводящее к резкому снижению скорости травления и невозможности дальнейшего проведения процесса.…”
unclassified
See 4 more Smart Citations
“…Такие оптические элементы, как широкоапертурные дифракционные линзы, применяемые для фокусировки лазерного излучения высокой мощности, должны быть изготовлены на массивных пластинах, обеспечивающих высокую лучевую прочность [5]. В работе [6] нами было показано, что внесение массивных диэлектрических подложек в рабочую камеру установки РИТ приводит к резкому увеличению коэффициента отражения по мощности (превышающему предельное паспортное значение) для генератора высокой частоты (ГВЧ), соединенного с нижним электродом. Это означает нарушение согласования ГВЧ с нижним электродом, приводящее к резкому снижению скорости травления и невозможности дальнейшего проведения процесса.…”
unclassified
“…В [6] подробно рассматриваются все параметры, необходимые для проведения численного эксперимента. Поэтому далее представлены лишь их основные особенности.…”
unclassified
See 3 more Smart Citations