Релаксация тока в Si-=SUB=-3-=/SUB=-N-=SUB=-4-=/SUB=-: эксперимент и численное моделирование

Abstract

Экспериментально измерена релаксация тока в структуре металл−нитрид−оксид−полупроводник. Эксперимент сравнивается с расчетом, основанным на двухзонной модели проводимости и многофононном механизме ионизации ловушек. Из сравнения эксперимента с расчетом для величины сечения рекомбинации получена оценка сверху, которая составила 5 • 10 −13 cm 2 .