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Tracking and tracing are a key technology for production process optimization and subsequent cost reduction. However, several industrial environments (e.g. high temperatures in metal processing) are challenging for most part-marking and identification approaches. A method for printing individual part markings on metal components (e.g. data matrix codes (DMCs) or similar identifiers) with high temperatures and chemical resistance has been developed based on drop-on-demand (DOD) print technology and special ink dispersions with submicrometer-sized ceramic and glass particles. Both ink and printer are required to work highly reliably without nozzle clogging or other failures to prevent interruptions of the production process in which the printing technology is used. This is especially challenging for the pigmented inks applied here. To perform long-term tests with different ink formulations and to assess print quality over time, we set up a test bench for inkjet printing systems. We present a novel approach for monitoring the printhead's state as well as the print-quality degradation. This method does not require measuring and monitoring, e.g. electrical components or drop flight, as it is done in the state of the art and instead uses only the printed result. By digitally quantifying selected quality factors within the printed result and evaluating their progression over time, several non-stationary measurands were identified. Some of these measurands show a monotonic trend and, hence, can be used to measure print-quality degradation. These results are a promising basis for automated printing system maintenance.

Anorganische Leuchtstoffe zeigen nach Anregung mit ultraviolettem oder infrarotem Licht spezifische Emissionseigenschaften, welche teilweise von der Materialhistorie abhängen. Konkret beschreibt dieser Beitrag die Änderung der Lumineszenzabklingzeit von Natriumyttriumfluorid (NaYF4) nach Exposition des Leuchtstoffs gegen Elektronenstrahlung. Die Änderungen sind dosisabhängig, so dass der Leuchtstoff als optisches Dosimetermaterial eingesetzt werden kann. In diesem Artikel fassen wir unsere Untersuchungen dieser Dosisabhängigkeit zusammen und zeigen neue Ergebnisse zur Stabilität des optischen Abfrageverfahrens. Es zeigt sich, dass NaYF4 über einen großen Dosisbereich hinweg einsetzbar ist (0 bis 150 kGy), wobei die höchste Sensitivität im Bereich zwischen 0 und 50 kGy auftritt. Das Material ist daher ein vielversprechender Kandidat für die optische Dosimetrie im Bereich unter 5 kGy. Dieser Bereich kann bisher nur mit komplexeren, nicht-optischen Verfahren abgedeckt werden. Die hohe Stabilität von NaYF4 unter Umgebungsbedingungen befördert außerdem die Eignung für industrielle Dosimetrieanwendungen

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A recent approach to measure electron radiation doses in the kGy range is the use of phosphors with an irradiation dose-dependent luminescence decay time. However, the applicability of the previously...