Backscattering spectra are measured in channeling-, blocking-, and double-aligned-arrangement. From these data it is possible to determine damage and dechanneling profiles. The method is applied to damaged silicon monocrystals. Riickstreuspektren werden in channeling-, blocking-und double-alignment-Anordnung gemessen. Aus diesen MeDwerten kann man Dekanalisierungs-und Strahlenschadenprofile bestimmen. DieMethode wird auf strahlengeschiidigtes Silizium angewendet.

No abstract

Leiter: Prof. Dr. R. Havemann) Hewn Prof. Dr. h7wt Meyer xum, 60. GPburtstny yem6hnet 0. IhIcitung h i m Entstehcn clcs latentcn Bildcs in dcr Silbcrhalogenidphase eiiicr photographischcn Emulsion wirken sehr viele Faktoren zusammen. Man kann das Entstehen des latentcn Bildes iiicht erlilkcn, ohne niihere Kenntnisse iiber die Natnr dcr Empfindlichkeitszentren und Schleierkeimc zu besit-ZCLL. Dic Eigenschaften der Empfindlichkeits-und Schleierzentren hlingen wiederum unlosbar mit dem Vorgang der chemischen Reifung zusammen. Die Empfindlichkeitszentren entstchen infolge einer topochemischen Reaktion der Photogelatine und ihrer photographisch alrtiven Bcglcitstoffc init den Silberhalogcnidkris tallcn. Ziel der vorliegcndcn ubersicht sol1 es scin, die wcscntlichstcn Problcme dicses GcFictes an €Iancl cincr Litcmturauswahl zu clislcutieren.