Arquitecturas informáticas para almacenamiento, proceso y administración de bases de datos para administración de integridad de ductos.

Phgeilceliech-Techniechee I n a t i t u t d e r Akademie d e rWieeenechaften d e r DDR, Jena

Die bei der Oxydation von gasförmigen Gemischen von C2F3Cl3, SiCl4, POCl3 und GeCl4 im Temperaturbereich von 1273 bis 2223 K im Quarzglasreaktor entstehenden Verbindungen werden in den Abgasen IR‐spektroskopisch untersucht. Danach entstehen bei der tiefen Temperatur als Zwischenprodukte CO, COF2, COFCl und CF4, die bei der hohen Temperatur unter Wechselwirkung mit SiO2 in die Endprodukte CO2, Cl2, SiF4, POF3 und GeF4 übergeführt werden. Die Abhängigkeit dieser Reaktionen von Temperatur und Strömungsgeschwindigkeit wird diskutiert.

ChemInform Abstract (oxidation of CF2Cl-CFCl2 in a quartz glass reactor in the presence of SiCl4 in part with the addition of POCl3 and GeCl4; IR of the effluent gases; evidence for the intermediates CO, COF2, COFCl, and CF4 at 1273 K and for the final products CO2, Cl2, SiF4 (and POF3 and GeF4) at 2223 K; influence of the flow velocity on the product distribution).