Über die Chemie der Oxydation gasförmiger Gemische von C₂F₃Cl₃, SiCl₄, GeCl₄ und POCl₃ bei hohen Temperaturen

Abstract

Die bei der Oxydation von gasförmigen Gemischen von C2F3Cl3, SiCl4, POCl3 und GeCl4 im Temperaturbereich von 1273 bis 2223 K im Quarzglasreaktor entstehenden Verbindungen werden in den Abgasen IR‐spektroskopisch untersucht. Danach entstehen bei der tiefen Temperatur als Zwischenprodukte CO, COF2, COFCl und CF4, die bei der hohen Temperatur unter Wechselwirkung mit SiO2 in die Endprodukte CO2, Cl2, SiF4, POF3 und GeF4 übergeführt werden. Die Abhängigkeit dieser Reaktionen von Temperatur und Strömungsgeschwindigkeit wird diskutiert.