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Nous savons que les équations de Fresnel appliquées à des dioptres supposés, parfaitement plans et homogènes, ne permettent pas de rendre compte des courbes de réflexion spéculaire fournies par des échantillons massifs ou en couche mince. Nos considérations sur divers processus de diffusion élastique ou inélastique, montrent que seule la diffusion élastique introduite par les irrégularités ou inhomogénéités de surface est importante pour l'analyse de ces courbes. Nous proposons quelques modèles de rugosité et en précisons les domaines de validité aussi bien pour la réflexion spéculaire, que pour la réflexion diffuse (suivant la loi des réseaux). Ces modèles sont comparés avec les courbes expérimentales obtenues sur des échantillons massifs de titane, de silicium et de germanium, avec les rayonnements Kα 1 du cuivre ou du chrome

2014 Les performances des multicouches dans le domaine X-UV sont tributaires des défauts structurels et géométriques des matériaux déposés. Ces défauts sont difficiles à différencier par l'analyse d'un seul pic de Bragg tel qu'observé en X mous. Dès lors, la prédiction des performances pour d'autres longueurs d'onde, devient délicate. Nous montrons comment la réflectométrie de rayons X rasants (Cu K03B11) permet de déterminer à la fois les rugosités interfaciales et les écarts d'épaisseur, ainsi que leur évolution au sein de l'empilement. Trois multicouches (W/C), de périodes comprises entre 3 et 6 nm et comportant de 20 à 40 couches élémentaires, sont analysées à titre d'exemples. Abstract. 2014 The performance of multilayers at the X-UV wavelengths depends upon the structural and geometrical imperfections of the deposited materials. These two respective contributions are not easily separated when only one Bragg peak is recorded, as is usually the case in the X-UV range, so a prediction of the performance at other wavelengths appears rather doubtful. We show how grazing incidence X-ray reflectometry (using Cu K03B11 radiation) allows the precise evaluation of both interfacial roughnesses and thickness errors, as well as their variations through the stacks. As examples, we analyse three (W/C) multilayers with periods between 3 to 6 nm and up to 40 layers.