Películas del (Ti,Al)N fueron crecidas sobre un sustrato de<br />acero inoxidable por la técnica PAPVD por arco pulsado controlado usando un blanco de TiAl (50/50 % atómico) con atmósfera Ar + N Se crecieron a diferentes temperaturas del sustrato, a temperatura ambiente, 50 C y 100 C. Los recubrimientos fueron caracterizados estructuralmente con difracción de rayos X (XRD), con el fin de determinar las microtensiones, el tamaño del cristalito y el parámetro de red; en función de la temperatura del sustrato se utilizó el método Rietveld con funciones de ajuste PVII y SPV. La caracterización morfológica se realizó con la técnica de microscopia de fuerza atómica (AFM), obteniendo resultados de rugosidad y tamaño de grano. Los resultados muestran que la orientación (200) es el plano de mayor intensidad que se mantiene para las diferentes temperaturas. La rugosidad de la película decrece a medida que la temperatura del sustrato aumenta.