Аналіза літературних даних показує, що вивчення поверхнево нанесе-них металевих наноструктур є актуальною проблемою фізики поверхні. Кінцева структура тонких плівок залежить від значної кількости пара-метрів і чинників, таких як відмінності постійних ґратниць і коефіціє-нтів термічного розширення речовини, що наноситься, та підложжя, що, в свою чергу, приводить до виникнення внутрішніх напружень і подальшої де´радації плівки. В процесі формування моно-та багатоша-рових структур вагоме місце займають такі параметри, як температура та структура підложжя, швидкість осадження, фраґментація наноклас-терів, характеристика змочування, час нанесення, віддаль від кювети до зразку, тиск у камері та температура розтопу в кюветі. Цілеспрямо-ване керування цими параметрами уможливлює прогнозувати та ство-рювати поверхневі структури з необхідним набором фізико-хемічних властивостей.Analysis of the literature data shows that the study of surface-deposited metallic nanostructures is an actual problem of surface physics. The final structure of thin films depends on a large number of parameters and factors such as the differences between the unit-cells' sizes as well as between the coefficients of a thermal expansion of a deposited substance and substrate that leads to internal stresses and a subsequent degradation of film. Many parameters such as temperature and a substrate structure, a deposition rate, fragmentation of nanoclusters, wetting parameters, time of application, dish-sample distance, pressure in a chamber, and temperature of melt in a dish can play an important role during the mono-and multilayer structures' formation. The goal-directed control of these parameters allows prediction and fabrication of surface structures with a required set of the physical and chemical properties. Анализ литературных данных показывает, что изучение поверхностноУспехи физ. мет. / Usp. Fiz. Met. 2017, т. 3, сс. 235-263 DOI: https://doi.org/10.15407/ufm.18.03.235 Îòòèñêè äîñòóïíû íåïîñðåäñòâåííî îò èçäàòåëÿ Ôîòîêîïèðîâàíèå ðàçðåøåíî òîëüêî â ñîîòâåòñòâèè ñ ëèöåíçèåé 2017 ÈÌÔ (Èíñòèòóò ìåòàëëîôèçèêè èì. Ã. Â. Êóðäþìîâà ÍÀÍ Óêðàèíû) Íàïå÷àòàíî â Óêðàèíå.

No abstract

No abstract

No abstract

Обозревается «квантовая инженерия» по созданию новых форм вещества, выращенных на поверхности полупроводниковых кристаллов. анализируются механизмы роста металлических плёнок на полупроводниковых подложках. рассматривается влияние подложки полупроводников III-V группы на морфологию роста серебряных плёнок. Описывается влияние температуры на морфологию плёнок. установлены условия стабильности низкотемпературного роста плёнок Ag на поверхностях Si (001) 2 × 1 и Si (111) 7 × 7. сделан вывод о том, что квантовые эффекты играют решающую роль в конструировании атомарно плоских металлических слоёв серебра на ряде монокристаллических плоскостей. Ключевые слова: монокристаллические полупроводниковые поверхности, плёнки серебра, морфология плёнок.