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Low‐energy inverse photoelectron spectroscopy (LEIPS) and ultraviolet photoelectron spectroscopy (UPS) incorporated into the multitechnique XPS system were used to probe the ionization potential and the electron affinity of organic materials, respectively. By utilizing gas cluster ion beam (GCIB), in situ analyses and depth profiling of LEIPS and UPS were also demonstrated. The band structures of the 10‐nm‐thick buckminsterfullerene (C60) thin film on Au (100 nm)/indium tin oxide (100 nm)/glass substrate were successfully evaluated in depth direction.

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マルチテクニック X 線光電子分光法(XPS)に搭載した低エネルギー逆光電子分光法(LEIPS; low energy inverse photoelectron spectroscopy)と紫外光電子分光法(UPS)を用いて，有機 EL 材料の電子親和力および イオン化ポテンシャルの評価を行った．CuPc(Cu phthalocyanine)薄膜(10 nm)/ITO(indium tin oxide)膜/ ガラス基板，C60 薄膜(10 nm)/Au 膜/ITO 膜/ガラス基板およびα-NPD(Bis[N-(1-naphthyl)-N-phenyl]benzidine) 薄膜 (10 nm) /ITO 膜/ガラス基板の 3 種類について， LEIPS を用いて LUMO (lowest unoccupied molecular orbital) 準位(最低空準位)を，UPS を用いて HOMO(highest occupied molecular orbital)準位(最高被占準位)を， それぞれ算出し各材料表面のバンドギャップを決定した．さらに，アルゴンガスクラスターイオン銃 (Ar-GCIB; argon-gas cluster ion beam) を用いる事で有機 EL 積層膜の深さ方向に対する LUMO および HOMO の評価も可能であることを示した．

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