Исследована температурная зависимость прямых и обратных ветвей вольт-амперной характеристики полупроводниковой структуры фотоэлектрического преобразователя с n + −p-переходом на основе монокристаллического кремния и антиотражающей пленкой пористого кремния на фронтальной поверхности. Обнаружено наличие нескольких механизмов токопрохождения. Установлено, что на процессы токопрохождения в исследуемой полупроводниковой структуре существенное влияние оказывают ловушки, возникающие при формировании пленки пористого кремния.
Методом токовой релаксационной спектроскопии глубоких уровней проведено исследование дефектов в полупроводниковой структуре фотоэлектрического преобразователя солнечной энергии на основе p-n-перехода с антиотражающей пленкой пористого кремния на фронтальной поверхности. Предложено объяснение вл ияния толщины пленки пористого кремния, формируемой методом электрохимического травления, на характер трансформации дефектов с глубокими уровнями и показатели эффективности преобразования солнечной энергии. DOI: 10.21883/PJTF.2017.21.45155.16929
Проведены исследования оптического спектра пропускания и температурной зависимости вольт-амперных характеристик плоскопараллельной пластины рубрена, изготовленной газотранспортным методом. Из оптического спектра пропускания определено значение ширины запрещенной зоны. Установлено, что вольт-амперные характеристики могут быть объяснены в рамках модели токов, ограниченных пространственным зарядом. На процессы токопрохождения существенное влияние оказывают ловушки.