No abstract

Цель. Изучить в эксперименте in vitro адгезию тромбоцитов к a-C:H:SiO x пленке на титане для оценки ее атромбогенного потенциала. Материалы и методы. Тонкие (менее 1 мкм) a-C:H:SiO x пленки наносили на титановые пластины марки ВТ-6 размером 10 × 10 мм 2 и толщиной 0,2 мм с помощью вакуумной ионно-плазменной установки с использованием импульсного биполярного смещения. Шероховатость поверхности оценивали согласно ГОСТ 2789-73 с помощью атомно-силового микроскопа. Исследуемые образцы культивировали при 37 °C в течение 30 мин в плазме крови человека, обогащенной тромбоцитами, подготавливали для сканирующей электронной микроскопии, после чего подсчитывали плотность распределения кровяных пластинок, адгезирующих к исследуемому покрытию. Результаты. При одинаковом индексе шероховатости исследуемых образцов a-C:H:SiO x пленка в 116 раз снижала (в сравнении с необработанным титаном) количество тромбоцитов на 1 мм 2 поверхности. Заключение. Формирование на поверхности титанового сплава ВТ-6 тонкой пленки состава a-C:H:SiO x методом плазмохимического осаждения с использованием импульсного биполярного смещения значительно снижает плотность распределения тромбоцитов в сравнении с необработанной металлической поверхностью. Полученные in vitro данные предполагают существенный атромбогенный потенциал данного вида покрытий на поверхности устройств, контактирующих с кровью. Ключевые слова: адгезия тромбоцитов человека, in vitro, углеродная поверхность, модифицированная оксидами кремния, сканирующая электронная микроскопия, атомно-силовая микроскопия. Конфликт интересов. Авторы декларируют отсутствие явных и потенциальных конфликтов интересов, связанных с публикацией настоящей статьи.

In this work, 0.5-7 µm thick a-C:H:SiOx films were obtained on silicon and VT6 ti-tanium alloy substrates in plasma of non-self-sustained arc discharge with a hot cathode using a bipolar pulsed substrate bias voltage. The dependence of hardness, internal stress-es, surface morphology, wettability, and the surface potential a-C:H:SiOx films on the thickness was studied. It is shown that increasing the film's thickness enhances the allow-able load on the material and its hardness. The a-C:H:SiOx films had low internal stresses (less than 600 MPa), and the contact angle with water was 75–80°. It is found that an in-crease in the film thickness leads to a rise in the negative surface potential from 50 to 670 mV.

No abstract