Методом зонной перекристаллизации градиентом температуры получены изопараметрические гетероструктуры AlInPSbAs/InAs для термофотопреобразователей, работающих в интервале длин волн 500−3200 nm. Использование пятикомпонентных твердых растворов AlInPSbAs в качестве активной области термофотопреобразователей позволяет повысить величину внешнего квантового выхода до 0.9 в спектральном диапазоне 520−2800 nm.

The paper discusses the influence of growth conditions on the structural perfection of AlInGaAsP/InP thin-film heterostructures. The main parameters determining the structural perfection and surface quality of thin AlInGaAsP epitaxial films grown on indium phosphide substrates from the liquid phase in the temperature gradiend field are determined.