На основе проведeнных in situ и ex situ эллипсометрических измерений найдены спектральные зависимости температурной чувствительности оптических постоянных Hg1-xCdxTe --- dn(λ) и dk(λ) для серии образцов разного состава в диапазоне от 0.160 до 0.327. Эксперименты были проведены в процессе остывания выращенных образцов в вакуумной камере. Установлено, что полученные зависимости dn и dk хорошо аппроксимируются суммой трeх осцилляторов Лоренца с добавлением дисперсионных слагаемых формулы Коши. Предложена параметрическая модель, которая описывает чувствительности dn(λ) и dk(λ) для произвольного состава x в указанном диапазоне вблизи температуры роста. Проведенные ex situ температурные измерения вблизи комнатной температуры коррелируют с данными высокотемпературных измерений. Полученные результаты актуальны для разработки эллипсометрических методов контроля in situ процессов роста слоeв Hg1-xCdxTe. Ключевые слова: кадмий-ртуть-теллур, эллипсометрия, спектры оптических констант, температурная чувствительность, молекулярно-лучевая эпитаксия.