Представлена модель эпитаксиального роста кристаллических многокомпонентных пленок на монокри-сталлических подложках с доменным соответствием на примере твердого раствора титаната бария-стронция на подложках сапфира (r-срез). Доменный эпитаксиальный рост предполагает согласование плоскостей решетки пленки и подложки, имеющих схожую структуру, путем сопоставления доменов, кратных целому числу межплоскостных расстояний. Варьирование компонентного состава твердого раствора позволяет изменять размер домена в диапазоне, достаточном для снижения рассогласования решеток титаната бария-стронция и сапфира до значения, достаточного для эпитаксиального роста. Таким образом может быть спроектирован эпитаксиальный рост пленок различных твердых растворов на монокристаллических подложках.
ВведениеЭпитаксиальный рост тонких пленок и минимизация дефектов в тонкопленочных гетероструктурах являются ключевыми факторами для получения перспективных характеристик устройств на их основе. Однако, зачастую многокомпонентные пленочные материалы плохо согла-суются с традиционными монокристаллическими под-ложками по параметрам решетки и температурным ко-эффициентам расширения, что препятствует гетероэпи-таксиальному росту. В таком случае подбор материалов пленки и подложки по принципу хорошего кристалличе-ского соответствия часто приводит к ухудшению тепло-вых или электрических характеристик гетероструктуры за счет проигрыша в теплопроводности, диэлектриче-ских потерях и т. д. Согласование кристаллических ре-шеток пленки и подложки за счет использования буфер-ных слоев также может привносить негативный вклад в характеристики конечного устройства из-за усложнения структуры и возникновения дополнительных интерфей-сов. Таким образом проблема ориентированного роста многокомпонентных пленок на несогласованных моно-кристаллических подложках без использования проме-жуточных буферных слоев остается открытой.Примером такой ситуации может служить сегнето-электрический (СЭ) твердый раствор титаната бария-стронция Ba x Sr 1−x TiO 3 (BST) на сапфире. Согласно публикациям, данная гетероструктура представляется перспективной для сверхвысокочастотных (СВЧ) при-менений. Можно выделить целый класс управляемых устройств СВЧ-диапазона (вариконды, фазовращатели, перестраиваемые фильтры, линии задержки, фазирован-ные антенные решетки и т. д.), реализация которых на основе СЭ-пленок в перспективе позволит улучшить характеристики устройств [1]. Пленочное исполнение СЭ-устройств на базе титаната бария-стронция позволя-ет легко достичь высокой напряженности управляющего электрического поля (до 100 V/µm), а, следовательно, высокой нелинейности. Соотношение бария и стронция в пленке BST определяет температуру фазового пе-рехода из сегнетоэлектрического в параэлектрическое состояние, а, следовательно, уровень диэлектрической проницаемости и СВЧ-потерь. Выбор компонентного состава позволяет управлять нелинейностью и темпе-ратурными свойствами пленки, а также добротностью СЭ-структуры в широких пределах.Что же касается подложки, то из материалов с низ-ким значением диэл...