Es wird die Durchflussmetallierung verschiedener Arene und Heteroarene durchI n-situ-Abfangen mit Metallsalzen (ZnCl 2 ·2 LiCl, MgCl 2 ,C uCN·2 LiCl, LaCl 3 ·2 LiCl) unter sehr zweckmäßigen Bedingungen (0 8 8C, 40 s) beschrieben. Die entstehenden Mg-, Zn-, Cu-oder La-organischen Spezies werden mit verschiedenen Elektrophilen in hohen Ausbeuten abgefangen. In mehreren Fällen werden ungewçhnliche kinetische Regioselektivitäten erzielt. Die Durchflussmetallierungen werden ohne weitere Optimierung schlicht durch Verlängerung der Reaktionszeit skaliert. Verglichen mit den entsprechenden Batch-Prozessen werden die Anwendungsmçglichkeiten durch solche Flussmetallierungen beträchtlich erweitert.
Dieortho-Lithiierungvon Arenen und Heteroarenen ist einwichtiges Verfahren zur Funktionalisierung ungesättigter Substrate.[1] TMPLi (TMP = 2,2,6,6-Tetramethylpiperidyl) ist eine besonders wirkungsvolle Base für solche Lithiierungen, [2] jedoch ist der ausgeprägt ionische Charakter der KohlenstoffLithium-Bindung in Aryllithium-Verbindungen oft mit empfindlichen Funktionalitäten wie Ester-, Cyan-oder NitroGruppen nicht kompatibel. Die Verwendung sperriger Silylester hat vor kurzem zur Lçsung dieses Problems beigetragen.[3] Darüber hinaus hat die Durchführung von Lithiierungen unter kontinuierlichen Durchflussbedingungen ebenfalls die Toleranz für funktionelle Gruppen erhçht.[4] Kürzlich haben wir berichtet, dass In-situ-Abfang-Transmetallierungen mit verschiedenen aromatischen und heteroaromatischen Substraten (Ar-H bzw.H et-H) durchgeführt werden kçnnen. [5] Bei dieser Methode wird das ungesättigte Substrat bei À78 8 8Cm it einem Metallsalz (M-X) wie Daher kçnnen die In-situ-Abfang-Metallierungen nun bei 0 8 8C( anstelle von À78 8 8C) durchgeführt werden. Ferner erhçhen diese neuen Reaktionsbedingungen das Anwendungspotenzial beträchtlich und führen zu einer problemlosen Skalierbarkeit solcher Metallierungen. Die Verwendung eines kontinuierlichen Durchflussaufbaus,wie er in Schema 2 beschrieben ist, ermçglicht die "In-situ-Transmetallierung" einer Vielzahl ungesättigter Substrate bei 0 8 8Ci nnerhalb von 40 s( anstelle von À78 8 8Cu nter Batch-Bedingungen). Entsprechend führt die Reaktion eines 1:2-Gemisches aus gut lçslichem ZnCl 2 ·2 LiCl und 4-Brombenzoesäureethylester (1a)i nT HF mit TMPLi (1.5 ¾quiv.) in einer Durchflussapparatur [7] für 40 sb ei 0 8 8Cu nd anschließende "BatchIodolyse" zur Bildung des Aryliodids (2a), das in 95 %A usbeute isoliert wird. Dagegen liefert die Durchführung dieser Reaktion bei À78 8 8Ci ne inem normalen Schlenk-Kolben (Batch-Bedingungen) das gewünschte Iodid (2a)t rotz zahlreicher Optimierungsversuche nur in 53 %A usbeute.E s sollte erwähnt werden, dass TMP 2 Zn·2 LiCl, [8] das in Abwesenheit von 4-Brombenzoesäureethylester (1a)g ebildet würde,unter diesen Bedingungen nicht das Arylbromid (1a) metalliert. Dies zeigt, dass es sich bei dem MetallierungsSchema 1. In-situ-Abfang-Metallierungen aromatischer Substrate.