The electrical conductivity as a function of film temperature, substrate temperature, and thickness is reported on InSb films flash evaporated onto gold seal glass, freshly cleaved mica and cleaved NaCl substrates in a vacuum of 6.7 >< 10-4 Pa. Post deposition annealing shows an interesting behaviour in the electrical conductivity. The structure of the films is found to improve with substrate temperature and single crystal growth is observed a t T, = 573 K. While the electrical conductivity shows an increasing behaviour with substrate temperature and thickness, the activation energy shows a decreasing trend.Die elektrische Leitfkhigkeit wird in Abhlngigkeit von der Schichttemperatur, Substrattemperatur und Dicke an InSb-Schichten untersucht, die auf goldversiegeltem Glas, frisch gespaltenem Glimmer und im Vakuum von 6,7 Y, Pa gespaltenen NaC1-Substraten blitzaufgedampft werden. Eine Temperung nach der Aufbringnng ergibt ein interessantes Verhalten der elektrischen Leitfihigkeit. Es wird gefunden, daB sich die Struktur der Schichten mit der Substrattemperatur verbessert und bei T, = 573 K wird Einkristallwachstum beobachtet. WIhrend die elektrische Leitfahigkeit mit der Substrattemperatur und Dicke ein steigendes Verhalten zeigt, hat die Aktivierungsenergie einen fallenden Trend.