2021
DOI: 10.15330/pcss.22.4.742-745
|View full text |Cite
|
Sign up to set email alerts
|

Investigation of Angular Spectrum of Scattered Inert Gas Ions from the InGaP (001) Surface

Abstract: It has been shown that this method is quite suitable for surface studies and diagnostics of many component materials. The values of the azimuthal angle of distribution of Ne, Ar and Xe ions scattered from InGaP (001) <110> are obtained. The relationship between the spatial variables of the scattered beam (mainly azimuthal angular spectra) and the type of ions has been established. The correlation between focusing properties of surface semichannel with a type of bombardment ion at the different angle of i… Show more

Help me understand this report

Search citation statements

Order By: Relevance

Paper Sections

Select...
1

Citation Types

0
0
0
1

Year Published

2021
2021
2024
2024

Publication Types

Select...
4
2

Relationship

0
6

Authors

Journals

citations
Cited by 6 publications
(1 citation statement)
references
References 8 publications
0
0
0
1
Order By: Relevance
“…Так, в последнее время, благодаря созданию квантово-размерных структур на кремнии [3][4][5] преодолена трудность его использования в фотоэлектронике из-за низкой вероятности излучательной рекомбинации [6][7], и тем самым получен новый импульс его широкого применения в названных областях науки и техники [8]. В производстве кремниевых интегральных схем, кроме качества структуры поверхности, большое значение имеет выбор кристаллографической ориентации кристаллов-подложек, например, плоскости (111) окисляются быстрее, чем плоскости (100), вследст вие большой поверхностной плотности упаковки атомов [9][10][11], способных вступать в реакцию окисления [12]. Степень очистки оказывает непосредственное влияние на качество продукции, поэтому все больше микроэлектронных компаний прилагают усилия в этом направлении [13][14][15][16][17].…”
Section: Introductionunclassified
“…Так, в последнее время, благодаря созданию квантово-размерных структур на кремнии [3][4][5] преодолена трудность его использования в фотоэлектронике из-за низкой вероятности излучательной рекомбинации [6][7], и тем самым получен новый импульс его широкого применения в названных областях науки и техники [8]. В производстве кремниевых интегральных схем, кроме качества структуры поверхности, большое значение имеет выбор кристаллографической ориентации кристаллов-подложек, например, плоскости (111) окисляются быстрее, чем плоскости (100), вследст вие большой поверхностной плотности упаковки атомов [9][10][11], способных вступать в реакцию окисления [12]. Степень очистки оказывает непосредственное влияние на качество продукции, поэтому все больше микроэлектронных компаний прилагают усилия в этом направлении [13][14][15][16][17].…”
Section: Introductionunclassified