“…Эти процессы могут иметь существенное влияние на величину эффективной площади сбора фотонов, и потому они являлись предметом изучения во многих публикациях, посвященных полупроводниковым фото-приемникам. Однако применительно к фотодиодам (ФД) на основе структур с гетеропереходом InAsSbP/InAs, используемым в пирометрии [1,2], газовом анализе [3] и в качестве термоэлектрических преобразователей [4], указанные исследования были крайне ограниченными и не охватывали многих аспектов указанного вопроса. Так, например, оценка отражательных свойств омиче-ских контактов к слоям InAsSbP с дырочным типом проводимости (анодов) вблизи максимума спектральной фоточувствительности проводилась лишь однажды [5], а пространственная неоднородность фоточувствитель-ности, обусловленная вхождением фотонов в кристалл вдали от анода ограниченной площади, рассматривалась лишь для ФД, освещаемых со стороны слоя p-типа (ан-гл.…”