Modelling of light-sensitivity of photo-polymerizing materials

Abstract

Запропонований розрахунковий метод визначення величини експозиції фото по лімеризаційноздатного матеріалу, необхідного для формування прихованого рель єфного зображення на фотоформі.На відміну від використовуваних сьогодні досліджуваних методів визначення величини необхідного часу експонування, такий метод дає змогу істотно ско ро тити витрати для оцінки величини експонування. Крім того, на підставі цього ме тоду створена програма розрахунку часу експонування залежно від різних па раметрів фотоформи.Найбільш відповідальною стадією технологічного процесу виготовлення фо тополімерних друкарських форм (ФПФ), що визначає їх якість, є опромінювання фотополімеризаційноздатних пластин (ФПП), протягом якого відбувається фо то ініційована полімеризація в шарі фотополімеризаційноздатної композиції (ФПК) і, як наслідок, формування прихованого рельєфного зображення, яке потім про яв ляється на стадії вимивання ФПФ. Тривалість процесу опромінювання (тобто ве личина експозиції) залежить, зокрема, від світлочутливості ФПК, спектрального складу та інтенсивності світла, якості й складності фотоформи.Ключові слова: фотополімерна друкарська форма (ФПФ), рельєфне зобра жен ня, експонування, опромінювання, поверхневий шар.

Modelling of light-sensitivity of photo-polymerizing materials

“…Н пор є постійною величиною для кожного типу формового матеріалу в певних умовах опромінювання і характеризує світлочутливість елементарного шару цього матеріалу. Її визначають за методикою «вимивного» рельєфу [3] для кожної партії формного матеріалу.…”