Dedicated to Professor Dr. K. W. BOER on the occasion of his 70th birthdayThe microstructurcs of WSiN and LaB6 thin layers (amorphous or crystalline) on GaAs substrates are studied in dependence on the deposition and annealing treatments by means of the TFXRD parallel-beam technique. From the I(219) diffractograms the recrystallization behaviour of thc sputtered a-WSiN and a-LaB6 layers can he especially investigated. These results are of relevance for the choice of suitable materials for diffusion barriers in contact systems.
Mittels TFXRD-Parallelstrahlteclinik werden die Mikrostrukturen (amorph oder kristallin) vonWSiN-und LaBc-Schichten auf GaAs-Substraten in Abhiingigkeit vom Beschichtungs-und Temper-Modus untersucht. Insbcsondere kann ails den 1(28)-Diffraktogrammen das Rekristallisationsverhalten der gesputterten a-WSiN-und a-LaB&chichten bestirnmt werden. Dicse Ergebnisse sind von Bedcutung bei der Anwendung dieser Substamen als Diffusionsbarrieren in Kontaktsystemen.