Variable numerical aperture and partial coherence studies: Process window and proximity effects

0,1 µm en production de masse en lithographie optique ?

“…Lors de la conception du système optique, les valeurs du degré de cohérence (rj ) et de l'ouverture numérique (NA) sont optimisées pour obtenir la capacité d'imagerie optimale. Jusqu'à maintenant, nous avons cherché à améliorer la résolution tout en gardant la profondeur de champ, nous pouvons aussi chercher à avoir une fenêtre de procédé la plus large possible [8]. L'optimisation de ce problème est grandement simplifié grâce à la disposition d'outils de simulation performants ; cette simulation permet d'optimiser les valeurs de NA et a et de prendre en compte le comportement du détecteur.…”

Numerical Aperture and Partial Coherence Optimization in Optical Li-Thography under Off-Axis Illumination

“…The performances of exposure tools are greatly affected by the change in NA and sigma, particularly when operating at the resolution limit. In order to get the best imaging performance for certain features, NA and sigma settings must be optimized [6][7][8][9] . The use of simulation has become an important means to study the effects of variable parameters on imaging performance, since it can save valuable resources required to manufacture masks and print wafers.…”