Влияние напряжения смещения и скорости осаждения на структуру и коэрцитивность пленок NiFe

Abstract

Influence of the bias voltage Ub and the deposition rate  on the structure, grain size D, and coercivity Hc of NiFe films with the thickness d from 30 to 980 nm, grown onto Si / SiO2 substrates by DC magnetron sputtering, was studied. In the case Ub = 0, the decrease of  from ≈ nm/min to ≈ 7 nm/min is accompanied by the increase of the critical film thickness dcr from dcr ≈ 220 nm to dcr ≈ 270 nm. In this case, Hc in the films with d < dcr is characterized by the dependence Hc ~ D6 and varies from ~ 1 to ~ 20 Oe. In the case of Ub = -100 V, the effect of the deposition rate on the coercivity is much more noticeable. At ν = 7 and 14 nm / min, the films demonstrate soft magnetic properties (Нс ≈ 0.15 - 1.4 Oe) and the absence of dcr for the entire range of studied thicknesses. The films obtained at ν = 21 and 27 nm / min turn into the “supercritical” state at d ≥ dcr ≈ 520 nm, and, in the region d < dcr, they are characterized by the dependence Hc ~ D3 and by the increase of coercivity from ~ 0.35 to ~ 10 Oe.

Особенности плоскостной магнитной анизотропии и доменной структуры пленок FeNi, осажденных в присутствии магнитного поля различной конфигурации

“…Основными способами формирования наведенной магнитной анизотропии в плоскости пленок являются наклонное напыление и осаждение пленок в присутствии магнитного поля, ориентированного в плоскости подложки [2][3][4]. Напыление пленки при наличии магнитного поля, ориентированного перпендикулярно плоскости подложки, может способствовать увеличению перпендикулярной магнитной анизотропии, возникновение которой обусловлено, как правило, микроструктурой пленки, а именно, столбчатой структурой [5][6][7]. Уменьшение магнитной анизотропии в плоскости образцов чаще всего достигается воздействием на осаждаемую пленку вращающимся в плоскости подложки магнитным полем или путем последующих дополнительных термомагнитных обработок [8,9].…”

Получение текстурированных пленок FeCo(110) и FeCo(200) магнетронным распылением на постоянном токе

“…Улучшение магнитомягких свойств пленок в результате термического отжига показано в работе [7] и объясняется рядом факторов, таких как уменьшение напряжений в результате рекристаллизации, уменьшение размера зерна и изменением текстуры. Влияние внутренних напряжений и текстуры пленок на магнитомягкие свойства пленок описано в работах [8][9][10].…”