Двухстадийная Конверсия Кремния В Наноструктурированный Углерод Методом Согласованного Замещения Атомов

Abstract

Abstract—A fundamentally new method of obtaining epitaxial layers of nanostructured carbon on silicon substrates has been considered. Epitaxial growth in the case of seemingly incompatible lattices has been achieved by converting the crystal by the method of coordinated substitution of atoms, in which the overall structure of the bonds between the atoms is not destroyed. In the first stage of conversion, the first half of the silicon atoms are concertedly replaced by the carbon atoms due to the reaction of silicon with CO gas, during which an epitaxial layer of SiC–3C cubic silicon carbide is obtained. In the second stage of conversion, the remaining half of silicon atoms is concertedly replaced by carbon atoms due to the reaction of SiC with CF_4 gas. Carbon structures with different properties from nanodiamonds to nanotubes and carbon nanoonions have been obtained depending on the orientation of the silicon surface, pressure of the reagent gas, and temperature and growth time. A key feature of this method is that the substrate orders the resulting structures using the original chemical bonds between the atoms in silicon. The term “concertedly” means that new chemical bonds are formed simultaneously and concertedly with the destruction of old bonds. Data on electron diffraction and analysis of Raman and ellipsometric spectra of the obtained samples of nanostructured carbon on silicon substrates have been presented. Two competing growth mechanisms have been discussed.

Гетероструктура 2D SiC/Si: электронные состояния и адсорбционная способность

“…Отметим, что в случае адсорбции Br и I на атомах кремния имеем соответственно n = 1.09 и 1.01. Малая ошибка возникает из-за приближенного характера выражения (10).…”

“…Для того чтобы понять, как 2D материал работает в приборных структурах, необходимо учитывать влияние подложки, рассматривая, таким образом, не свободную, а эпитаксиальную структуру. В этом плане представляют интерес работы [10][11][12], где исследовалась гетероструктура, образованная нанослоем карбида кремния, сформированного на кремниевой подложке (SiC/Si). Эта гетероструктура использовалась как платформа для роста ряда различных нанопленок.…”

Метод управления полярностью слоев GaN при эпитаксиальном синтезе GaN/AlN гетероструктур на гибридных подложках SiC/Si

“…Для роста нелегированных слоев GaN использовали трехдюймовые подложки Si p-типа проводимости ориентации (111) на которых предварительно была синтезирована наномасштабная пленка SiC методом [13][14][15][16].…”

Адсорбция атомов Ga и Cl и молекулы GaCl на карбиде кремния: модельный подход

“…В работе [7] предложен способ выращивания тонких слоев (∼ 1 µm) оксида галлия β-Ga 2 O 3 (моноклинная структура) методом хлоридной эпитаксии (в парах GaCl и O 2 ) на кремниевой подложке, покрытой нанослоем (∼ 100 nm) карбида кремния (гетероструктура β-Ga 2 O 3 /SiC/Si). Одним из первичных и многое определяющих физико-химических актов такого процесса является адсорбция (хемосорбция) атомов галлия и хлора на поверхности SiC, описанию которой и посвящена настоящая статья.…”