2019
DOI: 10.21883/jtf.2019.09.48068.43-19
|View full text |Cite
|
Sign up to set email alerts
|

Исследование Контаминационной Пленки, Формирующейся Под Действием Электронного Пучка

Abstract: During the study of materials on electron probe devices in the field of the electron beam, a contamination hydrocarbon film is formed, which influences the results of experiments. In this paper, we studied the effect of a contamination film formed on carbon-coated dielectric samples on the intensity of cathodoluminescence and X-ray characteristic emission lines. The absorption coefficient of the film for the visible and UV ranges was determined. The mechanism of film formation for various parameters of the ele… Show more

Help me understand this report

Search citation statements

Order By: Relevance

Paper Sections

Select...
1
1

Citation Types

0
0
0
2

Year Published

2021
2021
2024
2024

Publication Types

Select...
3

Relationship

2
1

Authors

Journals

citations
Cited by 3 publications
(2 citation statements)
references
References 11 publications
0
0
0
2
Order By: Relevance
“…Отсутствие изменений в спектрах при температуре 77 K можно объяснить тем, что вероятность образования радиационных дефектов уменьшается при уменьшении температуры. Так как, вероятность перехода атомов из узла кристаллической решетки материала в междоузлие под воздействием тепловых колебаний, напрямую зависит от температуры [12].…”
Section: осуждение результатов облучения электронным пучком с энергией 10 Kev в кл-установкеunclassified
“…Отсутствие изменений в спектрах при температуре 77 K можно объяснить тем, что вероятность образования радиационных дефектов уменьшается при уменьшении температуры. Так как, вероятность перехода атомов из узла кристаллической решетки материала в междоузлие под воздействием тепловых колебаний, напрямую зависит от температуры [12].…”
Section: осуждение результатов облучения электронным пучком с энергией 10 Kev в кл-установкеunclassified
“…В связи с этим при анализе экспериментальных данных необходимо учитывать все возможные факторы. При работе с высокотемпературными материалами, такими как оксид галлия, образование дефектов под действием электронов с энергиями до 25 keV невозможно, локальный нагрев образцов при выбранных условиях эксперимента не превышает несколько градусов, а как было показано ранее, образование контаминационной пленки приводит к медленному спаду интенсивности катодолюминесценции [18]. Это было учтено при обработке экспериментальных данных.…”
Section: методики исследованияunclassified