2017
DOI: 10.21883/pjtf.2017.22.45267.16917
|View full text |Cite
|
Sign up to set email alerts
|

Термическая стабильность несплавных омических контактов к гетероструктурам AlGaN/GaN

Abstract: Представлены результаты исследования деградации несплавных омических контактов с эпитаксиально-доращиваемым сильнолегированным GaN к гетероструктурам с двумерным электронным газом (ДЭГ). Исследовалось изменение значения относительного удельного контактного сопротивления при температурах до 600oC для металлизаций Ti/Pd/Au, Cr/Au и Cr/Pd/Au. Наилучшую стойкость к температурным воздействиям показал состав металлизации Cr/Pd/Au, сопротивление которого уменьшалось при рабочих температурах 400oC. Впервые продемонстр… Show more

Help me understand this report

Search citation statements

Order By: Relevance

Paper Sections

Select...
2

Citation Types

0
0
0
3

Year Published

2017
2017
2018
2018

Publication Types

Select...
2

Relationship

1
1

Authors

Journals

citations
Cited by 2 publications
(3 citation statements)
references
References 3 publications
0
0
0
3
Order By: Relevance
“…Розглядом вказаної проблеми займаються такі вчені як Дмитриевський А.В., Любіцева О.О., Романчук С.П., Маїло Я.В., Христов Т.Т., Биржаков М.Б., Сенін В.С., Муравйов О.Н., Романчук С.П., Павлов С.В., Мезенцев К.В. [1][2][3][4][5][6][7][8][9].…”
Section: About Available Resources and Routes; While Weak Links With unclassified
See 1 more Smart Citation
“…Розглядом вказаної проблеми займаються такі вчені як Дмитриевський А.В., Любіцева О.О., Романчук С.П., Маїло Я.В., Христов Т.Т., Биржаков М.Б., Сенін В.С., Муравйов О.Н., Романчук С.П., Павлов С.В., Мезенцев К.В. [1][2][3][4][5][6][7][8][9].…”
Section: About Available Resources and Routes; While Weak Links With unclassified
“…осіб,у Почаєві -не більше 500 тисяч, у Зарваниці -до 500 тисяч, у Джублику -до 300 тисяч, у Святогірську -близько 100 тисяч. [8] До основних причин, що перешкоджає розвитку релігійного туризму, належать:…”
Section: About Available Resources and Routes; While Weak Links With unclassified
“…Слоевое сопротивление канала составило 300 / . Технология формирования меза-изоляции и оми-ческих контактов более подробно описана в работах [13,14]. После формирования омических контактов наносился слой диэлектрика Si 3 N 4 толщиной 100 nm.…”
unclassified