In the fabrication of quartz glass fibers for optical communication, fluorine doping gets increasing importance. I n contrast t o other dopants, fluorine influences the deposition of SiO, in Modified Chemical Vapour Deposition. An equation is derived from considerations of equilibrium chemistry which yields the deposition efficiency of SiO, as function of fluorine doping. It is compared with experimental results.I3ei der Herstellung von Quarzglasfasern fur die Lichtleiternachrichtenubertragung gewiiint die Fluordotierung an Bedeutung. Iin Gegensatz zu enderen Dotanden beeinflufit die Fluordotierung aber die SiO,-Absclleidung bei der Modifizierten Chernischen Danipfphasenabscheidung. Eine Gleichung, die den Abscheidungsgrad von SiO, als Funktion der Fluordotierung liefert, wird aus Betrachtungen der Gleichgewichtscheinie hergeleitet und mit experirnentellen Ergebnissen verglichen.

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Fluorine incorporation during t h e deposition of silica layers is studied under MCVD conditions using C,F,Cl, as fluorine source. The experimental results are compared with known models of the incorporation mechanism. It is found that a gaspolid equilibrium during the consolidation step determines the final fluorine content of the layers.Der Fluoreinbau wahrend der Abscheidung von Quarzglasschichten wird unter MCVDBedingungen studiert, wobei C,F,Cl, als Fluorquelle Verwendung findet. Die experimentellen Ergebnisse werden mit bekannten Modellen Zuni Einbaumechanisnius verglichen. Es zeigt sich, dalj ein Gas-Festkorper-Gleichgewicht wahrend der Konsolidierungsphase den endgultigen Fluorgehalt der Schichten bestimmt.

A new inethod is developed for deducing viscosity data from collapse experiments with quartz glass reactor tubes. These data involve informations on temperature differences between outer and inner tube surface which are of great importance t o the MCVD procedure. The present investigations supported by some deposition experiments yield the surprising result t h a t a considerable temperature gradient exists also at rather low torch speeds. The reason for this effect is discussed.Eine neue Methode zur Ableitung von Viskositiitsdaten aus Kollabierexperimenten niit Quarzglasreaktorrohren wird entwickelt. Diese Daten enthalten Informationen uber Temperaturdifferenzen zwischen innerer und iiuBerer Rohroberfliiche, die fur die Durchfuhrung des MCVD-Verfahrens von grol3er Bedeutung sind. Die vorliegenden Untersuchungen liefern, gestutzt durch einige Beschichtungsversuche, das uberraschende Ergebnis, daR auch bei verhaltnismiil3ig kleinen Brennergeschwindigkeiten ein betriichtlicher Temperaturgradient existiert. Die Ursachen fur diesen Effekt werden diskutiert.

Phgeilceliech-Techniechee I n a t i t u t d e r Akademie d e rWieeenechaften d e r DDR, Jena