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Induktiv gekoppelte Plasmen (ICP) bieten im Gegensatz zu kapazitiv gekoppelten Plasmen (CCP) eine höhere Plasmadichte und ermöglichen daher höhere Beschichtungs‐ bzw. Ätzraten und damit eine hohe Wirtschaftlichkeit bei industriellen Niederdruck‐ Plasmaverfahren.Wir werden im Folgenden ein neuartiges Impedanzanpassnetzwerk vorstellen, das für die hohe Anforderung zum Betrieb von induktiven Plasmen und speziell für den Betrieb in einer industriellen Anwendung entwickelt wurde.Für die Anwendung in Produktionsanlagen sind genaue Kenntnisse der Plasmaeigenschaften, wie der Homogenität und der Ionenenergieverteilung erforderlich. Plasmadiagnostische Untersuchungen und Berechnungen der Plasmadichteverteilung werden hierzu dargestellt. Abschließend wird die Anwendungen in einer Produktionsanlage vorgestellt, die auf einer kompakten Stellfläche von nur 19 m2 1200 Substrate der Größe 156 mm × 156 mm vollautomatisiert pro Stunde beschichten kann.

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Die Manz AG kommt mit der neuen Beschichtungsanlage VCS1200 der Forderung der PV-Industrie nach immer höheren Wirkungsgraden bei gleichzeitig sinkenden Produktionskosten nach. Mittels neuartiger HP-ICP Technologie konnten bereits Wirkungsgrade über 20% erreicht werden. Die hohe Gaszersetzung, die mit diesem Verfahren erreicht wird, sorgt für kompakte Schichten mit sehr guten Passiviereigenschaften. Das ebenfalls neu entwickelte elektrostatische Carriersystem sorgt für eine geringe mechanische Belastung der Wafer bei gleichzeitig vollflächig homogener Abscheidung. Die VCS1200 kann sowohl für Rückseiten-Passivierungen als auch für Vorderseiten-Antireflexbeschichtungen eingesetzt werden.ABBILDUNG 1: Schematische Darstellung einer typischen Industriesolarzelle mit ganzflächig siebgedrucktem Al-BSF (links) und einer PERC-Solarzelle (rechts) mit einer dielektrischen Rückseitenpassivierung und lokalgeöffneten Aluminiumkontakten. ViP 25 ABBILDUNG 2: Die nahezu vollständige Zersetzung der Präkursorgase wurde mittels Massenspektrometrie nachgewiesen.

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