No abstract

Институт проблем технологии микроэлектроники и особо чистых материалов (ИПТМ) РАН, Россия, г. Черноголовка ИЗУЧЕНИЕ ПАРАМЕТРОВ ЭЛЕКТРОННОЙ ЛИТОГРАФИИ ПОСРЕДСТВОМ АСМ В работе рассматривается один из методов формирования микро-и нано-изображений с высокой точностью контролирования процесса-электронная литография. По сравнению с остальными технологиями наноструктурирования, в частности, с такими как фотолитография, рентгеновская литография, электронная литография является более универсальной. Если не требуется высокая производительность, то можно обойтись только одной электронной литографией. В данной работе описаны технологические процессы электронной литографии на кремниевой подложке с применением резиста на основе полимера ПММА. Облучение проводилось в камере СЭМ электронами с энергией 5 кэВ, 15 кэВ, 30 кэВ и дозой экспонирования 1-10000 мкКл/см 2. Анализ полученных образцов с помощью оптической и атомно-силовой микроскопии (АСМ) показал зависимость цвета и соответствующей толщины резиста от дозы облучения. На основе профилей толщины резиста, полученных с помощью АСМ, был проведен расчет таких параметров как положительная и негативная чувствительность, также контраст, которые являются определяющими параметрами для электронной литографии. В дополнение к значимости измеренных характеристик: чувствительности и контраста, представленная методика открывает экспериментальный способ изучения процессов взаимодействия электронов с веществом.

This article describes the creation and study of high quality reliefs and stamps. The thickness of the relief is 40 nm. The created nanoreliefs were investigated by optical and atomic force microscopy. Several methods have been tested for their creation: dry etching, nanolithography and nanoprinting. The developed technology for the transfer of nanoreliefs on various surfaces is distinguished by the obtained high resolution about 10 nm and low energies of the used electron beam 1-150 μC/cm2. The obtained finished reliefs can be used in mints in the form of a high level security holograms, in photolithography for the manufacture of masks, in the creation of rainbow holograms, holographic gratings.