Development of super-smooth flat silicon mirror substrates using bowl-feed chemical-mechanical polishing

Применение Нанопорошков Окиси Церия Для Полировки Кремния

“…Эффективная шероховатость поверхности после ХМП в диапазоне частот 0.013−64 µm −1 составила около 0.54 nm. Следует отметить, что практически совпадающие значения были получены при изучении Si пластин после ХМП для микроэлектронной промышленности в [33]. Хорошая сшивка PSD-функций, полученных обоими методами, подтверждает, что рассеяние главным образом определяется поверхностью, а не нарушенным слоем.…”

Atomic-level flatness on oxygen-free copper surface in lapping and chemical mechanical polishing

“…5–7 The special working conditions of OFC components require it to have low damage, high dimensional accuracy and high surface flatness. At present, the polishing methods used to obtain low damage and high surface accuracy include electrochemical polishing, 8 plasma-assisted chemical polishing, 9 bowl-feed polishing, 10 and chemical mechanical polishing. 11 All of the above methods can reduce the surface roughness and improve the machined surface quality, but some of them still have inevitable disadvantages.…”

Алмаз-Карбид-Кремниевый Композит "Скелетон" Как Перспективный Материал Для Подложек Рентгенооптических Элементов

“…C развитием мощных источников синхротронного излучения (3+ и 4-го поколения), а также лазеров на свободных электронах [1-3] остро встала проблема прецизионных рентгенооптических элементов, стойких к большим (до нескольких kW) радиационным и тепловым нагрузкам. В настоящее время считается, что в качестве материала подложек для зеркал, работающих под столь мощными пучками излучения, может рассматриваться в первую очередь монокристаллический кремний [4][5][6]. Другие материалы, в том числе карбид кремния и металлы (медь, алюминий, бериллий) по своим теплофизическим характеристикам сильно ему уступают [7,8].…”