“…Начальный интерфейс, как правило, получается заметно более резким, чем завершающий [20,30]. Более высокая резкость начального интерфейса может объясняться заметно меньшей растворимостью фосфора в капле катализатора [9,32,33] или тем фактом, что переход от чистого вещества к смеси всегда резче, чем обратный [9,34], а также наличием эффекта резервуара при росте ННК по механизму пар−жидкость−кристалл [8,34]. Таким образом, при формировании Ga(As, P)-вставки в GaP ННК начальный край вставки всегда резче завершающего.…”